Nanocaratterizzazioni delle Superfici (AFM)

Le caratteristiche topografiche delle superfici nell’industria dei semiconduttori sono una fonte importante per raccogliere informazioni sulle possibili fonti di guasto o stimare i tassi di successo per migliorare la resa complessiva del processo.
Esaminando la morfologia superficiale dei substrati, degli strati epitassiali prima e dopo i processi, possono essere portate alla luce delle criticità all’interno dei processi e quindi, risolvendole, si aumenta la qualità dei propri processi.